Chamber deposition and etch process

WO2021113178 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021113178
Aktenzeichen: EP20896792
Anmeldetag: 30. November 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311H01L21/02H01J37/32H01L21/687C23C16/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von