Pressure batch compensation to stabilize cd variation for trim and deposition processes

WO2021113425 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021113425
Aktenzeichen: EP20897215
Anmeldetag: 3. Dezember 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/56C23C16/52H01L21/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von