Method for improving consistency in mask pattern generation

WO2021115766 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021115766
Aktenzeichen: EP20811998
Anmeldetag: 21. November 2020
Veröffentlichung: 17. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/70G03F7/20G06N20/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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