Incidence angle adjustment mechanism for charged particle beam diaphragm, and charged particle beam device

WO2021117182 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021117182
Aktenzeichen: EP19955444
Anmeldetag: 12. Dezember 2019
Veröffentlichung: 17. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/09H01J37/147H01J37/15H01J37/153

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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