Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing
WO2021117428
Art A1
17. Juni 2021
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021117428
- Aktenzeichen
- EP20900646
- Anmeldetag
- 17. November 2020
- Veröffentlichung
- 17. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09G1/02C09K3/14B24B37/00H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
2.270 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.