Photosensitive Insulating Film-Forming Composition

WO2021117586 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021117586
Aktenzeichen: EP20899442
Anmeldetag: 3. Dezember 2020
Veröffentlichung: 17. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08G73/12G03F7/004G03F7/027G03F7/20H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von