Production method for high-purity hydrogen chloride gas

WO2021117610 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021117610
Aktenzeichen
EP20899727
Anmeldetag
3. Dezember 2020
Veröffentlichung
17. Juni 2021
Rechtsraum
WO
IPC
C01B7/07B01D19/00B01D53/14
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TOKUYAMA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen