Production method for high-purity hydrogen chloride gas
WO2021117610
Art A1
17. Juni 2021
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021117610
- Aktenzeichen
- EP20899727
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 17. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B7/07B01D19/00B01D53/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
1.073 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.