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WO2021118777 Art A1 17. Juni 2021

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021118777
Aktenzeichen: EP20828598
Anmeldetag: 18. November 2020
Veröffentlichung: 17. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S3/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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