Direct-write photoetching system and direct-write photoetching method

WO2021120906 Art A1 24. Juni 2021

Anmelder: SVG TECH GROUP CO., LTD, SOOCHOW UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021120906
Aktenzeichen: EP20901811
Anmeldetag: 4. November 2020
Veröffentlichung: 24. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B23K26/073

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: SVG TECH GROUP CO., LTD
SOOCHOW UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Soochow University

Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.

1.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen