Target material tank for extreme ultraviolet light source
WO2021121852
Art A1
24. Juni 2021
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021121852
- Aktenzeichen
- EP20811563
- Anmeldetag
- 20. November 2020
- Veröffentlichung
- 24. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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