Source material delivery system, euv radiation system, lithographic apparatus, and methods thereof

WO2021121985 Art A1 24. Juni 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021121985
Aktenzeichen: EP20821138
Anmeldetag: 2. Dezember 2020
Veröffentlichung: 24. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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