Directed gas purge to reduce dusting of excimer discharge chamber windows

WO2021126641 Art A1 24. Juni 2021

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021126641
Aktenzeichen: EP20829266
Anmeldetag: 9. Dezember 2020
Veröffentlichung: 24. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/034H01S3/225H01S3/036H01S3/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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