Manufacturing method for component of plasma treatment device and inspection method for component

WO2021130797 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021130797
Aktenzeichen: EP19957686
Anmeldetag: 23. Dezember 2019
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C4/134H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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