Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

WO2021131280 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021131280
Aktenzeichen: EP20907157
Anmeldetag: 22. Oktober 2020
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von