Organically modified metal oxide nanoparticle, method for producing same, euv photoresist material, and method for producing etching mask

WO2021131299 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021131299
Aktenzeichen: EP20904658
Anmeldetag: 27. Oktober 2020
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C01G25/00B82Y30/00G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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