Chemically amplified positive photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method for producing photosensitive dry film, method for producing patterned resist film, method for producing substrate provided with template, and method for producing plated modeled object

WO2021131538 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021131538
Aktenzeichen: EP20906551
Anmeldetag: 1. Dezember 2020
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C65/05C07C309/42C07C381/12C07D493/08G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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