Diaphragm valve, flow rate control device, fluid control device, and semiconductor manufacturing device

WO2021131631 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021131631
Aktenzeichen: EP20908277
Anmeldetag: 7. Dezember 2020
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: F16K7/12F16K31/02C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIKIN INCORPORATED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von