Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing mask blank and mask

WO2021132111 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: AGC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021132111
Aktenzeichen: EP20904793
Anmeldetag: 18. Dezember 2020
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AGC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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