Methods and apparatus for depositing aluminum by physical vapor deposition (pvd) with controlled cooling

WO2021133635 Art A1 1. Juli 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021133635
Aktenzeichen: EP20906264
Anmeldetag: 17. Dezember 2020
Veröffentlichung: 1. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/14C23C14/58C23C14/54C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von