Contaminant detection metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

WO2021136631 Art A1 8. Juli 2021

Anmelder: ASML HOLDING N.V., ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021136631
Aktenzeichen: EP20820922
Anmeldetag: 8. Dezember 2020
Veröffentlichung: 8. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML HOLDING N.V.
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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