Lithographic apparatus, metrology systems, illumination sources and methods thereof

WO2021136632 Art A1 8. Juli 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021136632
Aktenzeichen: EP20820927
Anmeldetag: 8. Dezember 2020
Veröffentlichung: 8. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B11/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von