Photosensitive resin layer, and dry film photoresist and photosensitive element using same
WO2021137466
Art A1
8. Juli 2021
Anmelder: KOLON INDUSTRIES, INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021137466
- Aktenzeichen
- EP20909692
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 8. Juli 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/033G03F7/028G03F7/09C08F265/06C08F220/28C08F220/36C08F220/06C08F220/18C08F212/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOLON INDUSTRIES, INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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