Photosensitive resin layer, and dry film photoresist and photosensitive element using same

WO2021137467 Art A1 8. Juli 2021

Anmelder: KOLON INDUSTRIES, INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021137467
Aktenzeichen: EP20911175
Anmeldetag: 11. Dezember 2020
Veröffentlichung: 8. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/033G03F7/028G03F7/09C08F265/06C08F220/28C08F220/18C08F212/08C08F2/50H05K3/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOLON INDUSTRIES, INC.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Kolon Industries

Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.

1.156 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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