Undercut electrodes for a gas discharge laser chamber

WO2021138019 Art A1 8. Juli 2021

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021138019
Aktenzeichen: EP20839434
Anmeldetag: 10. Dezember 2020
Veröffentlichung: 8. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/038G03F7/20H01S3/097H01S3/225H01S3/134H01S3/23H01S3/03H01S3/034H01S3/083H01S3/086H01S3/0971H01S3/1055H01S3/036

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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