Cvd-Reaktor und Verfahren zur Regelung der Oberflächentemperatur der Substrate

WO2021140078 Art A1 15. Juli 2021

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021140078
Aktenzeichen: EP21701042
Anmeldetag: 5. Januar 2021
Veröffentlichung: 15. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458C23C16/46H01L21/67H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von