Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, and compound

WO2021140761 Art A1 15. Juli 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021140761
Aktenzeichen: EP20911386
Anmeldetag: 20. November 2020
Veröffentlichung: 15. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/12C07C309/17C07C309/19C07C381/12C07D317/36C07D333/76C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07D307/33

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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