Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

WO2021140909 Art A1 15. Juli 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021140909
Aktenzeichen: EP20913035
Anmeldetag: 22. Dezember 2020
Veröffentlichung: 15. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08F222/20G03F7/038G03F7/039G03F7/11G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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