Catalyst Enhanced Seamless Ruthenium Gap Fill

WO2021141876 Art A1 15. Juli 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021141876
Aktenzeichen: EP21738064
Anmeldetag: 5. Januar 2021
Veröffentlichung: 15. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18C23C16/455C23C16/02C23C16/04H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von