Ammonia abatement for improved roughing pump performance

WO2021142028 Art A1 15. Juli 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021142028
Aktenzeichen: EP21737986
Anmeldetag: 6. Januar 2021
Veröffentlichung: 15. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/448

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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