Endosseous implant material substrate, endosseous implant material, and method for producing endosseous implant material substrate
WO2021145008
Art A1
22. Juli 2021
Anmelder: NGK SPARK PLUG CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021145008
- Aktenzeichen
- EP20914583
- Anmeldetag
- 3. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 22. Juli 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61L27/06A61L27/12A61L27/32A61L27/42A61L27/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NGK SPARK PLUG CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NGK Spark Plug
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Nagoya, traditionell bekannt für Zündkerzen und Sensoren für die Automobilindustrie sowie Keramikbauteile. Firmiert seit 2023 international unter dem Namen Niterra.
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