Methods and apparatus for depositing amorphous silicon atop metal oxide and structures formed by same

WO2021146568 Art A1 22. Juli 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021146568
Aktenzeichen: EP21741393
Anmeldetag: 15. Januar 2021
Veröffentlichung: 22. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/66H01L21/02H01L29/24H01L29/786C23C14/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von