Method for forming pattern, radiation-sensitive composition, and clathrate compound

WO2021149432 Art A1 29. Juli 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021149432
Aktenzeichen: EP20915378
Anmeldetag: 21. Dezember 2020
Veröffentlichung: 29. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08F12/28C08F20/58G03F7/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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