Mist film formation device and mist film formation method

WO2021149695 Art A1 29. Juli 2021

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021149695
Aktenzeichen: EP21743949
Anmeldetag: 20. Januar 2021
Veröffentlichung: 29. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: B05B5/057B05B5/08B05B12/00B05B13/02H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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