Low-loss dielectric for high frequency cryogenic applications
WO2021150101
Art A1
29. Juli 2021
Anmelder: TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021150101
- Aktenzeichen
- EP21700101
- Anmeldetag
- 13. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 29. Juli 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01P7/08H01L39/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
Technische Universiteit Delft
Niederländische Technische Universität in Delft mit breiter Forschung in Ingenieurwissenschaften und angewandter Technik.
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