Methods and devices for subtractive self-alignment

WO2021150280 Art A1 29. Juli 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021150280
Aktenzeichen: EP20915768
Anmeldetag: 23. Oktober 2020
Veröffentlichung: 29. Juli 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/67C23C14/56C23C14/16H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von