Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, and radiation-sensitive acid generator

WO2021153124 Art A1 5. August 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021153124
Aktenzeichen: EP20916687
Anmeldetag: 24. Dezember 2020
Veröffentlichung: 5. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07D317/44C07D317/64C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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