Methods and apparatus for plasma spraying silicon carbide coatings for semiconductor chamber applications
WO2021154816
Art A1
5. August 2021
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021154816
- Aktenzeichen
- EP21748336
- Anmeldetag
- 27. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 5. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B41/50C04B41/45C04B41/51H01L21/67H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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