A stage system, stage system operating method, inspection tool, lithographic apparatus, calibration method and device manufacturing method
WO2021155990
Art A1
12. August 2021
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021155990
- Aktenzeichen
- EP20833886
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 12. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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