Improved alignment of scatterometer based particle inspection system
WO2021156070
Art A1
12. August 2021
Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021156070
- Aktenzeichen
- EP21702873
- Anmeldetag
- 21. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 12. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/94G01N21/956G03F1/84G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML HOLDING N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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