Single crystal production method and single crystal pulling apparatus
WO2021157183
Art A1
12. August 2021
Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021157183
- Aktenzeichen
- EP20917602
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 12. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/06C30B15/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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