Vapor deposition mask intermediate, vapor deposition mask, mask device, and method for manufacturing vapor deposition mask

WO2021157463 Art A1 12. August 2021

Anmelder: TOPPAN PRINTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021157463
Aktenzeichen: EP21751024
Anmeldetag: 28. Januar 2021
Veröffentlichung: 12. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOPPAN PRINTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

2.559 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von