Resin pattern manufacturing method, circuit wiring manufacturing method, touch panel manufacturing method, and photosensitive transfer member

WO2021157525 Art A1 12. August 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021157525
Aktenzeichen
EP21751028
Anmeldetag
1. Februar 2021
Veröffentlichung
12. August 2021
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004G03F7/027H05K3/06G06F3/041
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
FUJIFILM CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen