Composition for lithography and pattern-forming method
WO2021157551
Art A1
12. August 2021
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021157551
- Aktenzeichen
- EP21750063
- Anmeldetag
- 2. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 12. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C39/15C07C39/367C07C39/38C07D207/20C08F12/16C08G61/00C07D311/80C07D311/82C08F212/14G03F7/038G03F7/039G03F7/11G03F7/20G03F7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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