Nitride semiconductor device with in-situ etched layer and method of fabricating same

WO2021157992 Art A1 12. August 2021

Anmelder: SEOUL VIOSYS CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021157992
Aktenzeichen: EP21750468
Anmeldetag: 2. Februar 2021
Veröffentlichung: 12. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L33/00H01L33/22H01L33/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SEOUL VIOSYS CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul Viosys Co., Ltd.

Seoul Viosys ist ein südkoreanischer Hersteller von LED-Chips und optoelektronischen Bauteilen, eine Tochtergesellschaft von Seoul Semiconductor, dessen Patente LED-Technologie betreffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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