Semiconductor metrology and inspection based on an x-ray source with an electron emitter array
WO2021158454
Art A1
12. August 2021
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021158454
- Aktenzeichen
- EP21750231
- Anmeldetag
- 1. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 12. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J35/06H01J1/304H01J35/10H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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