Method for using ultra-thin etch stop layers in selective atomic layer etching

WO2021158482 Art A1 12. August 2021

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO, A BODY CORPORATE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021158482
Aktenzeichen: EP21750754
Anmeldetag: 1. Februar 2021
Veröffentlichung: 12. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO, A BODY CORPORATE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇺🇸 The Regents of the University of Colorado, a Body Corporate

The Regents of the University of Colorado, A Body Corporate ist die Trägerkörperschaft der University of Colorado in den USA. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma und organische Chemie, ergänzt durch Halbleiter- und Werkstofftechnik. Anmeldungen sind von 2001 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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