Contour Extraction Method From Inspection Image in Multiple Charged-Particle Beam Inspection
WO2021160436
Art A1
19. August 2021
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021160436
- Aktenzeichen
- EP21702618
- Anmeldetag
- 27. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 19. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T5/00G06T5/50G06T7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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