Projektionsobjektiv eines Lithographiesystems und Verfahren zur Überwachung eines Projektionsobjektivs eines Lithographiesystems

WO2021160463 Art A1 19. August 2021

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021160463
Aktenzeichen: EP21703217
Anmeldetag: 2. Februar 2021
Veröffentlichung: 19. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/17

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von