Method for determining a mask pattern comprising optical proximity corrections using a trained machine learning model

WO2021160522 Art A1 19. August 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021160522
Aktenzeichen: EP21703884
Anmeldetag: 4. Februar 2021
Veröffentlichung: 19. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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