Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Anmelder: AIXTRON LTD. 🇬🇧
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021160784
- Aktenzeichen
- EP21706495
- Anmeldetag
- 12. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 19. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIXTRON LTD.
- Land
- 🇬🇧 Großbritannien
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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Fachgebiete
Die Wuppertaler Kanzlei geht auf Johannes Rieder zurück, der schon vor dem ersten deutschen Patentanwaltsgesetz von 1900 als Berater für Erfinder tätig war. Mit über hundertjähriger Kontinuität am Standort zählt sie zu den traditionsreichsten Patentanwaltspraxen im Bergischen Land.